Gesetz über den Schutz der Topographien von mikroelektronischen Halbleitererzeugnissen

Basisdaten
Titel:	Gesetz über den Schutz der Topographien von mikroelektronischen Halbleitererzeugnissen
Kurztitel:	Halbleiterschutzgesetz
Abkürzung:	HalbSchG
Art:	Bundesgesetz
Geltungsbereich:	Bundesrepublik Deutschland
Rechtsmaterie:	Geistiges Eigentum
FNA:	426-1
Datum des Gesetzes:	22. Oktober 1987 (BGBl. I S. 2294)
Inkrafttreten am:	1. November 1987
Letzte Änderung durch:	Art. 5 G vom 7. Juli 2008 (BGBl. I S. 1191, 1201)
Inkrafttreten der letzten Änderung:	1. September 2008 (Art. 10 G vom 7. Juli 2008)
Bitte beachten Sie den Hinweis zur geltenden Gesetzesfassung.

Nach dem Gesetz über den Schutz der Topographien von mikroelektronischen Halbleitererzeugnissen (Halbleiterschutzgesetz - HalbSchG) werden die dreidimensionalen Strukturen (Topographien) von Halbleitererzeugnissen geschützt^[1] (Halbleiterschutzrecht).

Voraussetzungen und Schutzumfang

Diese Topographien müssen dazu „Eigenart“ aufweisen, d. h., die Herstellung muss auf geistiger Arbeit beruhen und darf keine bloße Nachbildung einer anderen Topographie sein. Im Gegensatz zu einem Patent muss die Topographie nicht das Können des Durchschnittsfachmanns übertreffen, es bedarf keiner erfinderischen Tätigkeit.

Das Deutsche Patent- und Markenamt prüft vor der Registrierung nicht die Eigenart der Topographie. Die Anmeldung wird u. a. lediglich daraufhin geprüft, ob es sich nur um eine und nicht um zwei Topographien handelt, dass die Unterlagen zur Beschreibung der Topographie nicht als Geschäftsgeheimnis deklariert sind und ob das etwaige Datum der ersten Verwendung nicht länger als zwei Jahre zurückliegt. Die Anmeldegebühr beträgt 300 Euro (Stand 2007) und ist innerhalb von drei Monaten nach dem Anmeldetag zu zahlen.

Die 10-jährige Schutzdauer beginnt am Anmeldetag oder am Tag der ersten nicht nur vertraulichen Verwertung. Dieser Verwertung muss aber innerhalb von zwei Jahren vor dem Anmeldetag erfolgt sein. Die Schutzdauer endet jeweils am Ende des Kalenderjahres. Der Schutz hat die Wirkung, dass es ohne Zustimmung des Schutzrechtinhabers verboten ist die Topographie nachzubilden oder in Verkehr zu bringen. Erlaubt ist allerdings die Nachbildung der Topographie zum Zwecke der Analyse, der Bewertung oder der Ausbildung. Auch das so genannte „reverse engineering“ also die Verwertung einer Topographie, die als Ergebnis einer Analyse einer geschützten Topographie hergestellt wurde, ist erlaubt (§ 6 Halbleiterschutzgesetz).

Bedeutung

Im Jahr 2005 wurden in Deutschland 6 Topographien nach dem Halbleiterschutzgesetz neu angemeldet, im Jahr 2006 2, im Vergleich zu 506 Mask work registrations in den USA im Haushaltsjahr 2005. Die Zahl der Eintragungen lag bis 1994 bei 620, 1995 bei 143, 1996 bei 82, 1997 bei 88, 1998 bei 55, 1999 bei 64, 2000 bei 62, 2001 bei 59, 2002 bei 41, 2003 bei 12, 2004 bei 4, 2005 bei 6, 2006 bei 2 und 2007 bei 2.

In Deutschland gab es bis 2008 noch keine einzige gerichtliche Auseinandersetzung um Topographien von Halbleitern. Aus den USA sind lediglich die beiden Fälle Brooktree Corp. vs. Advanced Micro Devices, Inc. (1992)^[2] und Altera Corporation vs. Clear Logic, Inc. (2005)^[3] bekannt, wobei letzterer Fall den Anwendungsbereich des Gesetzes von dem reinen Maskenvergleich (dort geschützte Maske einer Anwendungsspezifischen Integrierten Schaltung (ASIC)) hin zum funktionalen Vergleich ausdehnt, weil der „bitstream“ (Konfigurationsprogramm) einer Programmierbaren logischen Schaltung (PLD) als ausführbare Technische Zeichnung einer Maske behandelt wird^[4].

Literatur

• Bernhard Geissler: Halbleiterschutzgesetz/Semiconductor Protection Act. (Textausgabe mit Erläuterungen). Carl Heymanns Verlag 1988, ISBN 3-452-21203-3
• Ernst-Peter Heilein: Die Bedeutung des Rechtsschutzes für integrierte Halbleiterschaltkreise in der Praxis - Prognose und Probleme eines sondergesetzlichen Schutzes. Peter Lang, 2003, ISBN 3-631-39812-3
• Thomas Hoeren: Der Schutz von Mikrochips in der Bundesrepublik Deutschland: kritische Überlegungen zum Halbleiterschutzgesetz vom November 1987. Waxmann, 1989, ISBN 3-89325-015-8
• Rainer Werum: Der Schutz von Halbleitererzeugnissen der Mikroelektronik im deutschen Rechtssystem. 1990, ISBN 3-63142834-0
• Guido Kucsko: Geistiges Eigentum. Manzsche Verlags- und Universitätsbuchhandlung, Wien 2003, S. 988–1006, ISBN 3-214-00423-9
• Leon Radomsky Sixteen Years After the Passage of the U.S. Semiconductor Chip Protection Act: Is International Protection Working? Berkeley Technology Law Journal， Bd．15，2000

Weblinks

• Text des Halbleiterschutzgesetzes
• vgl. US Semiconductor Chip Protection Act (SCPA) von 1984

Einzelnachweis

1. ↑ Gesetz über den Schutz der Topographien von mikroelektronischen Halbleitererzeugnissen
2. ↑ United States Court of Appeals for the Federal Circuit: Brooktree Corp. v. Advanced Micro Devices, Inc. Online: 977 F.2d 1555
3. ↑ United States Court of Appeals for the ninth circuit: Altera Corporation vs. Clear Logic, Incorporated Online: [1]
4. ↑ „Altera’s layout design is more than a mere idea. It is the blueprint for the layout of the semiconductor chip.“

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